IEC 62047-6:2009
(Main)Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 6: Axial fatigue testing methods of thin film materials
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 6: Axial fatigue testing methods of thin film materials
IEC 62047-6:2009 specifies the method for axial tensile-tensile force fatigue testing of thin film materials with a length and width under 1 mm and a thickness in the range between 0,1 µm and 10 µm under constant force range or constant displacement range. Thin films are used as main structural materials for MEMS and micromachines. The main structural materials for MEMS, micromachines, etc., have special features, such as typical dimensions of a few microns, material fabrication by deposition, andtest piece fabrication by means of non-mechanical machining, including photolithography. This International Standard specifies the axial force fatigue testing methods for micro-sized smooth specimens, which enables a guarantee of accuracy corresponding to the special features. The tests are carried out at room temperatures, in air, with loading applied to the test piece along the longitudinal axis.
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 6: Méthodes d'essais de fatigue axiale des matériaux en couche mince
La CEI 62047-6:2009 spécifie la méthode relative à l'essai de fatigue pour une force axiale de traction-traction des matériaux en couche mince de longueur et largeur inférieures à 1 mm et d'une épaisseur comprise entre 0,1 µm et 10 µm dans le cadre d'une gamme de force constante ou d'une gamme de déplacement constant. Les couches minces sont utilisées comme matériaux de construction principaux pour les systèmes micro-électromécaniques (MEMS, Micro-Electromechanical Systems) et les micromachines. Les matériaux de construction principaux pour les MEMS, les micromachines, etc. comportent des caractéristiques spéciales telles que des dimensions typiques de l'ordre de quelques microns, une fabrication de matériau par dépôt, et une fabrication d'éprouvettes d'essai au moyen d'un usinage non mécanique, qui peut être la photolithographie. La présente Norme internationale spécifie les méthodes d'essais de fatigue pour force axiale pour des éprouvettes lisses microminiaturisées, qui garantissent une précision correspondant aux caractéristiques spéciales. Les essais sont effectués à températures ambiantes, à l'air, en appliquant la charge à l'éprouvette le long de l'axe longitudinal.
General Information
Standards Content (Sample)
IEC 62047-6
®
Edition 1.0 2009-04
INTERNATIONAL
STANDARD
NORME
INTERNATIONALE
Semiconductor devices – Micro-electromechanical devices –
Part 6: Axial fatigue testing methods of thin film materials
Dispositifs à semiconducteurs – Dispositifs microélectromécaniques –
Partie 6: Méthodes d’essais de fatigue axiale des matériaux en couche mince
IEC 62047-6:2009
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